项目负责人：宋世豪 经济与管理

项目简介：

在EUV光刻机工作的过程中，光是能量密度较高，引起镜面温度升高产生形变，从而导致光束产生严重波前畸变，极大制约了投影光学系统的分辨率和刻浊线宽。

本项目提出：在光刻机投影光路中引入自适应光学矫正系统，利用波前测量装置实时精确测量光束的波前畸变，对其进行实时校整，提高分辨率。